Partículas de tântalo revestidos de evaporação

Partículas de tântalo revestidos de evaporação

Processos de modificação de superfícies de partículas, principalmente para incluir tratamento de fase líquida, tratamento de modificação a seco, tratamento em fase de gás, tratamento químico de força mecânica, radiação de alta energia (incluindo plasma, laser, feixe de elétrons, etc.) tratamento, etc. O processo de modificação das superfícies de partículas pode ser dividido em tratamento in situ e pós-tratamento de acordo com as sequências de modificação e preparação de partículas. O tratamento in situ é controlar ou mudar propositalmente a natureza da superfície das partículas ao mesmo tempo que o esmagamento de partículas ou a geração de partículas. Esta é uma solução eficaz para pós com alta aglomeração.
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Introdução de Produto

O processo de modificação da fase líquida é caracterizado pela dispersão de partículas na fase líquida e adsorção do modificador, o efeito de modificação de partículas de tântalo de revestimento de evaporação é estável, o modificador no uniforme de adsorção da superfície de partículas, completo, mas as partículas se aplicadas no estado seco, mas também precisam ser submetidas ao tratamento de secagem, o processo de modificação é complexo e caro.


O processo de modificação a seco é caracterizado pela dispersão de partículas no estado seco, pulverizando modificação ou solução de modificação, a uma certa temperatura para que o modificador adsorva na superfície das partículas para completar a modificação superficial das partículas. O método de modificação é flexível, simples e de baixo custo, mas é difícil conseguir um tratamento uniforme das partículas do processo de modificação.


O processo de modificação da fase de vapor é caracterizado pela dispersão do modificador na fase gasosa pode ser uniformemente adsorvida na superfície das partículas, o efeito de modificação de partículas é estável, comparado com o equipamento de processamento de fase líquida, o pó modificado não precisa ser seco. No entanto, devido às limitações da tecnologia de separação gás-sólido no processo de modificação, é difícil para o equipamento de tratamento em fase de gás modificar a superfície das partículas de submicron.


O processo de tratamento químico da força mecânica é caracterizado pela adição de modificadores para tratamento de modificação da superfície enquanto as partículas são esmagadas, e o tratamento de modificação da superfície das partículas é realizado enquanto o tamanho das partículas do pó é reduzido. Devido ao processo de esmagamento, as partículas produzirão um grande número de superfícies nascentes altamente ativas, e a forte ação mecânica durante o processo de esmagamento pode ativar a superfície das partículas, melhorando efetivamente a adsorção do modificador na superfície das partículas. O processo pode ser combinado com esmagamento de partículas e modificação da superfície, simplificando o processo de processamento de partículas, e pode melhorar a eficiência do esmagamento de partículas e aumentar o efeito da modificação da superfície de partículas. No entanto, devido ao processo de modificação, as partículas são constantemente esmagadas, resultando em uma nova superfície, a superfície de partículas é difícil de adsorto completamente o modificador.


O processo de modificação da radiação de alta energia é caracterizado por alterar diretamente a carga da superfície das partículas e alterar a natureza da superfície da partícula através de radiação de alta energia, ou usando radiação de alta energia para melhorar a adsorção de modificadores orgânicos na superfície da partícula e modificar melhor a superfície de partículas de tantalum revestidos de evaporação.

Nome do produtoGrânulos de tântalo revestidos de evaporação
Especificação do produtoPersonalizado de acordo com a demanda
Características do produtoresistência à corrosão, resistência à alta temperatura
AplicaçãoAditivo
Empacotamentode acordo com o tamanho e as necessidades do cliente
PreçoDiferentes graus de desconto de acordo com a quantidade de pedidos
MOQ5KG
Estoque1100KG

Tantalum Particles

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