Características alvo do hafnium
Forma do alvo do Hafnium: alvo plano, personalização em forma de especial
Hafnium Alvo Purity: 3N5
Tamanho do alvo do Hafnium: processado de acordo com desenhos ou personalizado por outros
Também podemos fornecer arame de hafnium, folha de hafnium, grânulos de hafnium, hastes de hafnium, pó de hafnium, etc.
Processo de preparação do alvo do hafnium Preparação do metal do hafnium: o metal do hafnium é a matéria -prima do alvo do hafnio, que precisa ser preparado reduzindo o tetracloreto de hafnium ou o fluoreto de hafnium. Processamento do metal Hafnium: o metal do hafnium é processado na forma e tamanho necessários, geralmente forjando, alongamento, corte e outros métodos de processamento. Limpeza do alvo do hafnium: Limpe as impurezas e óxidos na superfície do alvo do hafnio para garantir a pureza do material. Processamento e teste de alvos de hafnium: derreta as barras de hafnium cristalizadas em lingotes, processe os lingotes nos alvos da forma e tamanho necessários e, em seguida, testam estritamente a pureza e o tamanho dos grãos para garantir que a qualidade dos alvos do hafnium atenda aos requisitos. Os acima são as principais etapas na preparação dos alvos do hafnium. Os processos de preparação de diferentes fabricantes podem variar, mas em geral eles são baseados nas etapas acima.
Descrição do alvo do tântalo
Nome do produto: Tantalum alvo
Marca: TA1 TA2
Pureza: maior ou igual a 99,95% 99,99%
Densidade: 16.66g/cm3
Aplicação: Tantalum Sputtering metas são folhas de tântalo obtidas pelo processamento de pressão, com alta pureza química, tamanho de grão pequeno, boa recristalização
Organização e consistência nos três eixos, usados principalmente na deposição de fibras ópticas, bolachas semicondutores e circuitos integrados
Coating, alvos de tântalo podem ser usados para revestimentos de categoria de cátodo, materiais ativos de alto aspirador de vácuo, etc. É um material importante para a tecnologia de filmes finos.
