Nome: Tantalum (TA Target)
Tipo: alvo plano, alvo multi-arco, alvo redondo, alvo rotativo
Tamanho do grão: 45 mícrons
Pureza: 99,99%, 99,999%
A rugosidade da superfície: ras 0. 8um (superfície da pulverização), ras6.4um (para metalização)
Tamanho do alvo φ25, 3 0, 40, 50,5, 60, 76,2, 80, 100, 101,6mm, t: 0. 2-10 mm, etc.
Equipamento aplicável para Tantalum Alvo: Aplicável a vários sistemas de pulverização de alvo único, sistemas de pulverização com vários alvos, sistemas de pulverização de íons e outros equipamentos de pulverização de magnetron de Huachuang North, Zhongke Keyi, Shenyang Keyi, China Electronics Technology, Instituto de Microeletrônicos, JinSheng-Micro-Nano, Technology, Technology, Technology, Instituto de Varactônicos, JinSheng-Micro-Nan, Technology, Technology, Technology, Technology, Instituto de Varactônicos, JinSheng-Micro-Nano, Technology, Technology, Technology, Technology, Instituto de Microeletrônicos, JinSheng-Micronnan
Tantalum Alvo Application Áreas: Aplicações de pesquisa e pesquisa científica, óptica, processamento de micro-nano, dispositivos e outros setores, amplamente utilizados em chips semicondutores, luz solar
Tipo: alvo plano, alvo multi-arco, alvo redondo, alvo rotativo, tela plana, revestimento especial e outros produtos de revestimento.
Contato: Kelly
E -mail: kd@tantalumysjs.com
Whatsapp\/skype: +86 13379388917
Telefone\/WeChat: +86 13379388917
Fax: 0917-3139100
Código de postagem: 721013
Web: www.tantalumysjs.com
Adicionar: Zona industrial de Wenquan Village, Zona de Desenvolvimento de Gaoxina, cidade de Baoji, província de Shaanxi, China
