
Alvos de pulverização de molibdênio
1.Pureza: 99,95 por cento;
2. Circular: Diâmetro<= 14 inch, Thickness >= 1mm;
Bloco: Comprimento<= 32 inch, Width <= 12 inch, Thickness >= 1mm.
Objetivos para alvos de pulverização catódica de molibdênio
O molibdênio metálico cinza prateado tem dureza Mohs de 5,5. Tem um ponto de fusão de 4.753 graus F/2.623 graus. Dos elementos naturais, apenas tântalo, ósmio, rênio, tungstênio e carbono têm pontos de fusão mais altos. O molibdênio começa a oxidar fracamente a cerca de 300 graus (572 graus F). Entre os metais comumente usados, possui um dos menores coeficientes de expansão térmica. Quando o diâmetro dos fios de molibdênio é reduzido de 50-100 nm para 10 nm, sua resistência à tração aumenta quase três vezes, de cerca de 10 para 30 GPa.
| tipo de material | Molibdênio |
| Símbolo | mo |
| Peso atômico | 95.96 |
| Número atômico | 42 |
| Cor/Aparência | cinza, metálico |
| Condutividade térmica | 139 W/m.K |
| Ponto de fusão (grau) | 2,617 |
| Coeficiente de expansão térmica | 4.8 x 10-6/K |
| Densidade teórica (g/cc) | 10.2 |
| Razão Z | 0.257 |
| Sputter | DC |
| Densidade Máxima de Potência* (Watts/polegada quadrada) |
150 |
| Tipo de Título | índio, elastômero |
| Comentários | Filmes suaves, duros. Necessária desgaseificação cuidadosa |
Mais detalhes sobre alvos de pulverização catódica de molibdênio
Aplicações: monitores de tela plana, semicondutores e eletrônicos
Características: Baixo custo; alta pureza; grãos purificados com microestrutura projetada; grau de semicondutor

Método de Fabricação
1. Refino
Fusão e fundição em um processo eletrolítico de três camadas
Refinamento de grãos, lingotamento semicontínuo e forno de resistência elétrica
Tratamento termomecânico, limpeza final e limpeza a vácuo antes da embalagem
proteção contra toxinas ambientais
Proteção durante o transporte
2.Opções
Sputtering target bonding service; pureza mínima de 99,95 por cento; tamanhos menores também oferecidos para aplicações de P&D
Todos os produtos-alvo da Yusheng Metals são projetados especificamente para operar de forma confiável no processo de deposição de filme fino. O processo de fabricação garante alta pureza, partículas finas e uniformes do alvo. Oferecemos uma ampla gama de opções em uma variedade de pureza e formas.
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