Alvos de pulverização de molibdênio

Alvos de pulverização de molibdênio

Informações sobre alvos de pulverização de molibdênio
1.Pureza: 99,95 por cento;
2. Circular: Diâmetro<= 14 inch, Thickness >= 1mm;
Bloco: Comprimento<= 32 inch, Width <= 12 inch, Thickness >= 1mm.
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Introdução de Produto

Objetivos para alvos de pulverização catódica de molibdênio
O molibdênio metálico cinza prateado tem dureza Mohs de 5,5. Tem um ponto de fusão de 4.753 graus F/2.623 graus. Dos elementos naturais, apenas tântalo, ósmio, rênio, tungstênio e carbono têm pontos de fusão mais altos. O molibdênio começa a oxidar fracamente a cerca de 300 graus (572 graus F). Entre os metais comumente usados, possui um dos menores coeficientes de expansão térmica. Quando o diâmetro dos fios de molibdênio é reduzido de 50-100 nm para 10 nm, sua resistência à tração aumenta quase três vezes, de cerca de 10 para 30 GPa.

tipo de material Molibdênio
Símbolo mo
Peso atômico 95.96
Número atômico 42
Cor/Aparência cinza, metálico
Condutividade térmica 139 W/m.K
Ponto de fusão (grau) 2,617
Coeficiente de expansão térmica 4.8 x 10-6/K
Densidade teórica (g/cc) 10.2
Razão Z 0.257
Sputter DC
Densidade Máxima de Potência*
(Watts/polegada quadrada)
150
Tipo de Título índio, elastômero
Comentários Filmes suaves, duros. Necessária desgaseificação cuidadosa

Mais detalhes sobre alvos de pulverização catódica de molibdênio

Aplicações: monitores de tela plana, semicondutores e eletrônicos
Características: Baixo custo; alta pureza; grãos purificados com microestrutura projetada; grau de semicondutor

Molybdenum Sputtering Targets factory

Método de Fabricação

1. Refino
Fusão e fundição em um processo eletrolítico de três camadas
Refinamento de grãos, lingotamento semicontínuo e forno de resistência elétrica
Tratamento termomecânico, limpeza final e limpeza a vácuo antes da embalagem
proteção contra toxinas ambientais
Proteção durante o transporte

2.Opções
Sputtering target bonding service; pureza mínima de 99,95 por cento; tamanhos menores também oferecidos para aplicações de P&D

Todos os produtos-alvo da Yusheng Metals são projetados especificamente para operar de forma confiável no processo de deposição de filme fino. O processo de fabricação garante alta pureza, partículas finas e uniformes do alvo. Oferecemos uma ampla gama de opções em uma variedade de pureza e formas.

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